退火爐是一種工藝設(shè)備，主要用于半導(dǎo)體器件制造中加熱多個半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。

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退火爐是節(jié)能型周期式作業(yè)爐，采用超節(jié)能結(jié)構(gòu)，如纖維結(jié)構(gòu)，節(jié)電60%，其骨架由各種型鋼焊接而成，爐體部分采用優(yōu)質(zhì)耐火磚結(jié)構(gòu)，以確保爐膛的密封性。
在半導(dǎo)體制造過程中，退火爐通過熱處理實現(xiàn)多種效果，如激活摻雜劑、將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面、使致密沉積的薄膜、改變生長的薄膜的狀態(tài)、修復(fù)注入的損傷、移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底等。
退火爐還可以集成到其他爐子處理步驟中，如氧化步驟，或者獨立處理。
退火爐的溫度控制范圍主要取決于其類型、應(yīng)用領(lǐng)域以及處理的材料。
一般來說，退火爐的工作溫度范圍在200℃至1200℃之間。然而，不同的材料和工藝可能需要不同的溫度范圍。
例如，在鋼鐵加工行業(yè)中，網(wǎng)帶式退火爐通常在700℃-900℃的溫度下工作，以改善鋼材的鑄造結(jié)構(gòu)和機械性能。
而在航空航天領(lǐng)域中，網(wǎng)帶式退火爐需要在更高的溫度下工作，可以達到1200℃以上，以處理高溫合金、鎢、鉬等材料。
同時，退火爐的溫度穩(wěn)定性和均勻性也至關(guān)重要，這可以減少熱處理過程中的不均勻變形和質(zhì)量問題。
總之，退火爐的溫度控制范圍是一個相對寬泛的區(qū)間，具體范圍需要根據(jù)實際應(yīng)用場景、處理材料以及工藝要求來確定。